Questão 45 — Deposição Química por Vapor (CVD) (Ciência dos Materiais) — Cebraspe · Ministério da Ciência, Tecnologia e Inovação — Laboratório Nacional de Astrofís… 2024

Ciência dos Materiais Deposição Química por Vapor (CVD)

Cebraspe 2024 Superior

Ministério da Ciência, Tecnologia e Inovação — Laboratório Nacional de Astrofísica (LNA/MCTI) · Cargo 6: Tecnologista – Especialidade: Desenvolvimento e Integração de Instrumentação Científica e Planejamento e Execução de Atividades em Laboratórios de Pesquisa e Desenvolvimento Tecnológico

Gabarito disponível

Acerca da técnica de deposição química por vapor, assinale a opção correta.

Selecione uma alternativa A) É inviável a utilização dessa técnica com filmes de óxido de silício. B) A deposição química por vapor é um método de crescimento escalonável para a síntese de filmes finos. C) Uma baixa razão de velocidade, em moléculas por segundo, implica uma espessura pouco controlada. D) A velocidade de reação da superfície depende da pressão. E) A referida técnica é ineficiente para a produção de dispositivos para aplicações em optoeletrônica.