Gabarito disponível
Durante o processo de dopagem utilizado na fabricação de dispositivos semicondutores, impurezas específicas são introduzidas ao silício com o objetivo de modificar suas propriedades elétricas. Considerando o material do tipo n resultante desse processo, assinale a opção correta.
Resolução comentada
Material tipo n: elétrons livres majoritários, dopagem pentavalente.
Na dopagem tipo n, átomos pentavalentes (doadores, como fósforo) fornecem elétrons livres, que são os portadores majoritários.
Análise das alternativas
A: descreve o tipo p (trivalentes e lacunas). B: a condutividade aumenta. D: o silício dopado conduz melhor. E: no tipo n os minoritários são lacunas.
Referência: Semicondutores extrínsecos.
Resolução comentada do VaiConcursos.